论文部分内容阅读
本文中针对磁控溅射镀膜和离子镀两种物理气相沉积方法的不同，开展了高分子纳米核孔膜基的金膜沉积研究，分析了纳米级金粒子在纳米孔中的结晶成核过程及其形貌。结果表明，在同样的高分子纳米核孔膜中，离子镀比磁控溅射镀膜方法得到的膜层表面更为平整，后者在纳米孔内形成高度为1～2μm，大端直径为纳米孔的直径，小端为针状的晶体结构，而同样的沉积时间离子镀得到的结晶体较为圆滑，没有锥状物的出现。同时针对磁控溅射镀膜方法而言，随着镀膜沉积时间的延长，结晶体在纳米孔中的形状保持不变，但纳米孔边缘有明显的收缩趋势。