【摘 要】
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研究了化学气相沉积法的反应参数对Cu上生长石墨烯的影响。研究表明:通过调整甲烷流量和石墨烯的生长时间,采用热化学气相沉积法可以在多晶铜箔上生长出大面积单层石墨烯。分
【机 构】
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中国科学院物理研究所北京凝聚态物理国家实验室;
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研究了化学气相沉积法的反应参数对Cu上生长石墨烯的影响。研究表明:通过调整甲烷流量和石墨烯的生长时间,采用热化学气相沉积法可以在多晶铜箔上生长出大面积单层石墨烯。分别采用拉曼光谱、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)以及扫描隧道显微镜(STM)等检测手段对所生长石墨烯的质量、层数和缺陷进行分析测试,结果表明通过调节甲烷流量和反应时间等条件能够实现多晶Cu上单层石墨烯可控生长。此外,用小流量甲烷在近常压下生长大面积均匀单层石墨烯的理想条件是:甲烷流量为2～3 sccm,生长时间约30分钟。
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