2. 您的位置
3. 首页
4. 会议论文
5. 工艺参数对中频非平衡磁控溅射制备TiN膜性能的影响

工艺参数对中频非平衡磁控溅射制备TiN膜性能的影响

来源 :全国真空冶金与表面工程学术会议论文集 | 被引量 : 0次 | 上传用户：zgm_19780916

【作 者】

：

吴宇峰 马胜歌 张德元 张以忱 耿漫 周 

【出 处】

：

全国真空冶金与表面工程学术会议论文集

【发表日期】

：

2005年07期

下载到本地 , 更方便阅读

下载此文 赞助VIP

声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架

论文部分内容阅读

其他文献

中国农村问题现在有四个关键

期刊

基于FPGA的图像采集与传输

学位

儿童数学认知策略的发展特点及其影响因素

会议

基于汉字构形理论的中级阶段对外汉字书写教学设计

学位

建设高质量专业化干部队伍

报纸

证券投资者保护的社会化网络首发

期刊

±500kV直流输电线路直线塔无人机巡检安全距离仿真与试验

期刊

陕西省区域体育旅游业综合竞争力差异识别评价与协调发展路径研究

期刊

雄安新区土地生态系统服务价值变化与敏感性分析

期刊

中学生数学焦虑、信念与数学成绩的研究

会议