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会议论文
与CMOS工艺完全兼容硅基发光研究的发展前景
与CMOS工艺完全兼容硅基发光研究的发展前景
来源 :2011年全国半导体光源系统学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:cph2009
【摘 要】
:
本文从硅基微电子技术和光电子技术相结合和集成电路光互联需要出发,指出与CMOs工艺完全兼容硅基发光研究的重要意义。并在充分分析此研究领域的特点和分类的基础上,提出该
【作 者】
:
毛陆虹
陈燕
郭维廉
陈弘达
牛萍娟
李晓云
杨广华
【机 构】
:
天津大学电子信息工程学院,天津,300072天津大学电子信息工程学院,天津,300072中国科学院半导体研究所,北京,100083中国科学院半导体研究所,北京,100083天津工业大学信息与通信工程学
【出 处】
:
2011年全国半导体光源系统学术年会
【发表日期】
:
2011年12期
【关键词】
:
硅基发光
光电子技术
发光器件
集成电路
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本文从硅基微电子技术和光电子技术相结合和集成电路光互联需要出发,指出与CMOs工艺完全兼容硅基发光研究的重要意义。并在充分分析此研究领域的特点和分类的基础上,提出该研究领域的几个重点研究方向。
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