【摘 要】
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TiN薄膜具有耐磨、耐高温、耐腐蚀以及优良的光学、电学及生物相容特性,应用于机械、电子、冶金、建筑节能和医学领域.本文以四氯化钛乙醇溶液为钛源,以聚乙烯吡咯烷酮(P
【机 构】
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华北理工大学 材料科学与工程学院,河北唐山,063009
【出 处】
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第八届中国功能玻璃学术研讨会暨新型光电子材料国际论坛
论文部分内容阅读
TiN薄膜具有耐磨、耐高温、耐腐蚀以及优良的光学、电学及生物相容特性,应用于机械、电子、冶金、建筑节能和医学领域.本文以四氯化钛乙醇溶液为钛源,以聚乙烯吡咯烷酮(PVP)为成膜助剂,利用非水解溶胶-凝胶法合成出TiO2薄膜,再结合还原氮化技术,在NH3气氛下还原氮化制备出TiN薄膜.利用XRD、XPS、SEM、UV-VIS-NIR、RAMAN和四探针测试仪研究了TiN薄的相组成、显微结构、光学及电学性能.结果发现,当还原氮化温度为1000℃时,合成出的薄膜中出现了TiN晶体(111)、(200)和(220)晶面特征衍射峰,薄膜中TiN晶粒发育良好,晶粒大小约为60 nm,膜厚约为153nm.TiN薄膜的可见光最大透过率约为12％,近红外反射率可达70％左右；TiN薄膜的方块电阻为89Ω/□.同时利用R6G作为探针分子研究了TiN薄膜拉曼增强效应,结果发现,TiN薄膜具有显著的拉曼增强效应,与空白石英基片相比,TiN薄膜对R6G增强因子为4.8×103,检出限为1 0-6mol/L.
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