【摘 要】
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超精密模具表面镀膜预处理选择合适的离子源清洗预处理参数十分重要,本文探索了不同离子源清洗参数对WC(12%)基片表面粗糙度Ra和表面最大峰谷值PV的影响.结果表明:基片表面粗糙度和表面最大峰谷值的增加量随基片偏压升高呈指数增加;而离子源电压对基片表面粗糙度和表面最大峰谷值影响较弱;研究还表明:采用阳极层离子源电压1350V基片偏压200V预处理后镀膜,膜层表面晶粒细小均匀,表面致密性增加.基片不经
【机 构】
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北京科技大学材料科学与工程学院,北京 100083 中科院力学研究所,北京 100190
【出 处】
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第10届中国热处理活动周暨中国热处理技术路线图论坛
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超精密模具表面镀膜预处理选择合适的离子源清洗预处理参数十分重要,本文探索了不同离子源清洗参数对WC(12%)基片表面粗糙度Ra和表面最大峰谷值PV的影响.结果表明:基片表面粗糙度和表面最大峰谷值的增加量随基片偏压升高呈指数增加;而离子源电压对基片表面粗糙度和表面最大峰谷值影响较弱;研究还表明:采用阳极层离子源电压1350V基片偏压200V预处理后镀膜,膜层表面晶粒细小均匀,表面致密性增加.基片不经离子源清洗处理后镀膜,膜基结合力为7.5 N;基片经离子源750 V和离子源1350V处理后,膜基结合力提高到13N和14.5 N,膜基结合力有较大改善,这种结合力的提高来源于硬质合金中的Co粘结相被溅射,基片表面形成很多空隙,成膜原子与基体间形成钉扎作用.
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