【摘 要】
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GaN谐振腔可用于制作新型可见光发光器件,特别是平板谐振腔是制作谐振腔发光二极管(RCLED),垂直腔面发射激光器(VCSEL)等光电子器件的基础[1,2].制作低损耗谐振腔、掌握其光
【机 构】
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GaN谐振腔可用于制作新型可见光发光器件,特别是平板谐振腔是制作谐振腔发光二极管(RCLED),垂直腔面发射激光器(VCSEL)等光电子器件的基础[1,2].制作低损耗谐振腔、掌握其光学性质是实现高性能器件的重要条件.我们利用蓝宝石衬底上制作的外延片,利用激光剥离去除蓝宝石衬底、利用磁控溅射制备介质膜分布布拉格反射镜(DBR)等手段,最终制作了GaN谐振腔结构.为了降低谐振腔内的光损耗,对于蓝宝石近邻的高缺陷GaN实行减薄以降低缺陷的吸收和散射,再进行抛光使表面平坦化以降低表面的散射损耗[1,2].
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