【摘 要】
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石英音叉陀螺光刻对准精度直接影响石英音叉结构的不对称性,而石英音叉结构的不对称性是陀螺正交耦合误差的根源.为了提高石英音叉陀螺光刻工艺的水平,采用SPC(Statistical P
【机 构】
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航天长征火箭技术有限公司 北京100076
【出 处】
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第十三届全国敏感元件与传感器学术会议
论文部分内容阅读
石英音叉陀螺光刻对准精度直接影响石英音叉结构的不对称性,而石英音叉结构的不对称性是陀螺正交耦合误差的根源.为了提高石英音叉陀螺光刻工艺的水平,采用SPC(Statistical Process Control)统计过程控制方法,对光刻工艺的正交耦合误差进行统计分析,利用单值-移动极差控制图对光刻工艺的统计受控状态进行监测,并采用工序能力指数(Cpk)进行定量评价.通过SPC的应用并对光刻工艺进行改进后,正交耦合误差正态分布图明显改善,均值μ减少了56％,偏差σ减少了55％,光刻工艺状态得到有效控制。
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