【摘 要】
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本工作以Cu-20Zr(20 wt﹪)铸造合金为靶材,经磁控溅射形成纳米晶涂层.通过利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电镜(TEM)、能量衍射分析(EDAX)以及电化学等方法表征合金腐蚀前后的成分及结构变化.结果表明,溅射Cu-Zr合金由Cu和CuZr两相组成,晶粒尺度在20-30nm之间.由极化曲线可以看出,合金的腐蚀包括溶解和类钝化两个过程,其中溶解是由于Zr组元的脱合金
【机 构】
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中国科学院金属研究所腐蚀与防护国家重点实验室(沈阳)
【出 处】
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2004年全国腐蚀电化学及测试方法学术交流会
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本工作以Cu-20Zr(20 wt﹪)铸造合金为靶材,经磁控溅射形成纳米晶涂层.通过利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电镜(TEM)、能量衍射分析(EDAX)以及电化学等方法表征合金腐蚀前后的成分及结构变化.结果表明,溅射Cu-Zr合金由Cu和Cu<,5>Zr两相组成,晶粒尺度在20-30nm之间.由极化曲线可以看出,合金的腐蚀包括溶解和类钝化两个过程,其中溶解是由于Zr组元的脱合金化生成的;而类钝化则是由铜的一价、二价腐蚀产物覆盖在合金表面造成的.选择不同的腐蚀电位将改变涂层溶解机制.
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