【摘 要】
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平面变栅距光栅是光栅发展史上的巨大技术进步.在其出现后短短十几年的时间内,引起了各国研究人员的密切关注,进行了大量的研究,并尝试将其应用于各种光谱仪中.但平面变栅距光栅的机械刻划十分困难,目前国际上只有日本、美国、德国可以刻制实用的平面变栅距光栅.研究平面变栅距光栅的原理、设计、制作和性能评价具有十分重要的意义.
【机 构】
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中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 国家光学机械质量监督检验中心 长春 130033
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平面变栅距光栅是光栅发展史上的巨大技术进步.在其出现后短短十几年的时间内,引起了各国研究人员的密切关注,进行了大量的研究,并尝试将其应用于各种光谱仪中.但平面变栅距光栅的机械刻划十分困难,目前国际上只有日本、美国、德国可以刻制实用的平面变栅距光栅.研究平面变栅距光栅的原理、设计、制作和性能评价具有十分重要的意义.
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