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本文力图枙要介绍第六次全国学术交流大会以来,国内加速器物理研究工作在理和实践两个方面的主要进展和成果,并结合国际加速器物理研究的动态,展望我国的发展前景.
我国加速器物理研究的现状和展望
【摘 要】
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本文力图枙要介绍第六次全国学术交流大会以来,国内加速器物理研究工作在理和实践两个方面的主要进展和成果,并结合国际加速器物理研究的动态,展望我国的发展前景.
【机 构】
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中国科学院高能物理研究所(北京) 清华大学工程物理系(北京)
【出 处】
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中国物理学会粒子加速器学会第六届会员代表大会暨成立20周年学术报告会
【发表日期】
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2000年8期
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研究了以单质硅粉为原料、水玻璃与氨水为复配催化剂制备硅溶胶的最佳工艺.通过对硅溶胶制备的温度、反应时间、催化剂用量等单因素实验分析,总结了各因素对硅溶胶质量分数的影响规律;利用正交实验设计,得出了硅溶胶的最佳制备条件:时间:7h,温度:80℃,水玻璃:水:硅粉=1:20:3(质量比).
研究开发出的环流式旋风除尘器,其结构为同轴双套筒形式,含尘气体从内筒下部进入,大部分由顶部直接排出,克服了一般旋风除尘器流动线路长的缺陷.实验结果表明:环流式旋风除尘器与DⅢ型旋风除尘器相比,具有压降低、分离效率高、操作弹性大等优点.
自改革开放以来,无机硅化物行业以我国丰富的石英砂、纯碱、硫酸为主要原料获得了迅速发展,年产300多万吨,在国内外已行成一个产业链.硅胶在业内是一产量较大的系列产品,年总产量20万吨左右,目前每吨产品平均耗水50-60吨,产生的废水约20-25吨.无机硅化物行业的进一步的可持续发展,要求高质量的原料水,要求原料水尽可能的低消耗,要求尽可能的少排放废水和尽可能的废水回用.针对上述要求,本文简要介绍原料
报道了控制FeSiAl膜应力的几种有效方法，膜应力为10 7dyn/cm 2量级。20um、30um超厚FeSiAl膜，并制成了录像机磁头。
用直流离子束共溅射技术溅射co-ag复合靶，制备了一系列CO含量不同的颗粒膜，薄膜厚度约为400nm含Co的体积比从0.03到0.84。在室温下，Co-Ag颗粒膜的板克尔角k的磁光谱被测量，测量的波长范围从400nm到850nm。当外磁场大小为1.0T并且方向垂直于膜面时，得到最大的克尔角为0.28。研究人员的结果显于在颗粒膜极克旋转中，钴颗粒的浓度和微结构起重要作用。
该文研究了sm 2CO 17-xA1 x（X＝0、1、2、3、4）的结构和磁性。所有样品都为菱方的Th 2Zn 17型结构，且由于Al对co的替代，单胞体积A1含量的增多近似线性地以7．47A3/Al的速度增大。居里温度和饱和磁化强度随Al含量的增加而线性下降。对室温取向样品的X射线衍射测量指出，所有样品在室温下的易磁化方向为c轴。多晶奇点检测法（SPD）对各向异性的测量结果说A1对co的替代对c
采用磁控溅对方法，在不同溅射气压下制备了具有巨磁电阻效应的Ni 20Fe20/cu金属多层膜。室温下，饱和磁电阻值随着Cu层厚叵的增加呈振荡变化，对应于溅射气压为0.25Pa的样品，在cu层厚度tcu＝10A、22A时，磁电阻出现两个峰值·磁电阻分别为194和11.6，溅射气压为0.45Pa的样品，磁电阻分别为11.2℅和1℅。采用同步辐射光源，在cuK吸收边能量位置（8.989KEV）对不同溅射
该文报导了应用表面磁光克尔效应谱仪（SMoKE）研究对在GaAS（001）表面分子束外延的co膜磁学性质随膜厚度变化的实结果。研究人员发现，当生长温度为150℃时，co膜的矫力厚度的变化可以分为二个阶段，在1.5-6nm这一阶段中，Co随着一度的增加由最初的几乎为零迅速增大，在6nm到最大值；接下来，当co膜厚度大于6nm时，随着厚度的进一步增大，矫顽力并下继续增大，反而下降。另外，还对克尔信号随
该文报道了射频磁控溅射制备的Co/v多层膜的结构及铁磁共振行为。对其微结构的研究发现多层膜是由柱状晶粒构成的多晶薄膜，在膜的生长方向具有fcc CO（111）和bccV（110）织构，且存在较严重的界面合金化。从铁磁共振谱中一致进动峰计算出的g因子和4Me值偏小也说明了这一点。当V层较薄时（＜2.4nm）普遍观测到自旋波共振峰，根据拟合计算出的较小的层间耦合常数说明多层膜中存在较弱的层间耦合作用