【摘 要】
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利用脉冲激光沉积技术制备了高质量的PtSi/Si纳米薄膜.采用X射线光电子能谱、原子力显微镜及高分辨电子显微镜等现代材料分析方法,研究了不同工艺参数薄膜的相形成、组分和界面结构,利用I-V法和FTIR法测量了样品的肖特基特性和红外吸收特性等光电性能.系统分析了工艺参数、界面结构与光电性能的关系.揭示了PtSi纳米薄膜的形成条件及其界面结构对红外探测性能的影响规律.
【机 构】
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哈尔滨工业大学材料科学与工程学院(哈尔滨) 兰州物理研究所激光分子束外延技术实验室(兰州)
【出 处】
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第四届中国功能材料及其应用学术会议
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利用脉冲激光沉积技术制备了高质量的PtSi/Si纳米薄膜.采用X射线光电子能谱、原子力显微镜及高分辨电子显微镜等现代材料分析方法,研究了不同工艺参数薄膜的相形成、组分和界面结构,利用I-V法和FTIR法测量了样品的肖特基特性和红外吸收特性等光电性能.系统分析了工艺参数、界面结构与光电性能的关系.揭示了PtSi纳米薄膜的形成条件及其界面结构对红外探测性能的影响规律.
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