氧化镓薄膜分子束外延生长及其器件研制

来源 :第一届全国宽禁带半导体学术及应用技术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:amwaydog
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
作为一种新兴的宽禁带半导体,由于,氧化镓可以采用标准熔区法或倒模法生长低成本、高质量单晶,因此,近年来,单斜结构β-Ga2O3备受人们关注.从功率器件的角度看,氧化镓的Baliga优值因子仅次于金刚石,比SiC和GaN更适合研制功率器件,随着单晶质量的提高,2012年,日本信息通信研究所首次报道了基于β-Ga2O3的场效应晶体管,初步显示了其在功率器件方面的潜在价值.此外,β-Ga2O3还是直接带隙半导体,禁带宽度达4.9eV,吸收带边对应于日盲紫外区,将在日盲紫外探测方面具有重要应用价值.为了开展基于宽禁带氧化镓的日盲紫外探测器研制,本实验室采用分子束外延在(0001)取向的蓝宝石基片上生长p-Ga203异质外延薄膜,并初步研究了其紫外响应特性。在优化条件下,根据X射线衍射谱判断:所生长p-Ga203薄膜具有良好的织构特性。在此基础上,本文还研制了光电导型日盲紫外探测器,在20V偏压下,其饱和暗电流约为0.04nA,饱和光电流约为438nA,光电流与暗电流比值约为10-4,由此计算得到:在20V偏压下,器件光响应度约为259AW-l。与所有光电导探测器一样,器件虽然存在一定程度的持续光电导现象,但从图1所示的器件动态响应特性来看,器件基本可以满足紫外成像系统研制的需要。
其他文献
会议
会议
GaN基器件近些年来发展快速.基于性价比的考虑,蓝宝石和硅衬底仍然是用来外延GaN的首要选择.但是不可避免的异质衬底会带来的晶格和热失配,进而造成GaN外延层的高位错密度.位
会议
会议
会议
  In situ asymmetric island sidewall growth(AISG)was developed to improve the crystalline quality of the(11-22)GaN films on m-sapphire.By AISG the Ga-face fac
会议
There is a great potential in cost reduction for optoelectronics and power electronics by epitaxially integratingⅢ-Nitride semiconductors on large diameter sil
会议
在GaN基光电子器件的研究中,N极性器件因具有更高的空穴注入效率、有利于制备高质量高In组分的InGaN/GaN量子阱等独特优势而受到广泛关注.但相比于Ga极性GaN薄膜,异质外延N极
会议
宽禁带GaN半导体器件以其优异的电学和光学特性,已成为目前半导体领域中的研究热点.以GaN单晶基片作为衬底进行GaN的同质外延生长,是实现高压,高频,高温GaN半导体器件优异性
会议
AlN及其合金是深紫光电子器件和高频大功率微波器件的理想制备材料.然而由于AlN本身的材料特性,导致其生长制备比较困难.一般而言,其生长温度通常比较高,如国内外报道MOCVD和
会议