【摘 要】
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光学散射测量技术具有速度快、成本低、无接触、非破坏和易于在线集成等优点,在极大规模集成电路制造中获得了广泛应用[1].穆勒矩阵椭偏仪作为光学散射测量技术的一种,可以在
【机 构】
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华中科技大学数字制造装备国与技术国家重点实验室,武汉,430074
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光学散射测量技术具有速度快、成本低、无接触、非破坏和易于在线集成等优点,在极大规模集成电路制造中获得了广泛应用[1].穆勒矩阵椭偏仪作为光学散射测量技术的一种,可以在一次测量中获得待测样品的16 个穆勒矩阵元素,并能改变波长、入射角及方位角三种测量条件,进而可以获得诸如样品各向异性、退偏等丰富得多的测量信息[2].然而,在穆勒矩阵椭偏仪测量中,对于样品横向分布信息的获取需要平移样品多次测量获得,测量速度较慢;同时受限于仪器的光斑尺寸和平移台精度,横向分辨率较低.
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