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MOCVD of compound semiconductor and nitride films for LED
【机 构】
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AIXTRONAG,Kackertstr.15-17,52072Aachen,GermanyRWTHUniversityAachen,Germany
【出 处】
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AVT2010国际学术会议——真空技术在光电材料与器件中的应用
【发表日期】
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2010年8期
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