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文章介绍了在同一基底上，多种膜层的湿法刻蚀工艺机理，报导了ＩｎＳｂ薄膜霍尔元件制造中介质隔离膜、敏感膜、欧姆接触膜等多层复合薄膜的选择刻蚀工艺技术，经试验证明效果良好。
InSb霍尔元件膜层刻蚀工艺
【摘 要】
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文章介绍了在同一基底上，多种膜层的湿法刻蚀工艺机理，报导了ＩｎＳｂ薄膜霍尔元件制造中介质隔离膜、敏感膜、欧姆接触膜等多层复合薄膜的选择刻蚀工艺技术，经试验证明效果良好。
【机 构】
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仪器仪表工艺研究所
【出 处】
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第五届全国敏感元件与传感器学术会议
【发表日期】
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1997年期
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本文提出在弹性徐变体有限元分析中采用分区异步长算法，即在局部范围内采用小步长，而在其余广大范围内，采用大步长，从而使计算得到简化．
In this paper, we propose to use a par