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用PVD 法在锗、硅基板上沉积Pb1-xGexTe 薄膜.研究基板表面态(不同抛光表面、不同的晶向)和基板温度对其膜的沉积速率、界面、结构及其光学特性的影响.(包括透射率、色散关系及折射率的温度系数等)
Pb1-xGexTe 薄膜性能与其基板的关系
【摘 要】
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用PVD 法在锗、硅基板上沉积Pb1-xGexTe 薄膜.研究基板表面态(不同抛光表面、不同的晶向)和基板温度对其膜的沉积速率、界面、结构及其光学特性的影响.(包括透射率、色散关系
【机 构】
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中科院上海技术物理研究所,200083
【出 处】
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五省一市光学学会联合年会暨十三省市光学学会联合年会
【发表日期】
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2008年9期
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