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采用射频磁控溅射法在Corning 7059玻璃和有机衬底上制备了ZnO:Al透明导电膜.研究了薄膜厚度的变化对薄膜的结构性质、光电性质的影响,性能最好的薄膜电阻率分别为8.55×10<-4>Ω·cm和1.89×10<-3>Ω·cm,透射率达到了85℅和80℅.
薄膜厚度对ZnO:Al透明导电膜的结构和光电性能的影响
【摘 要】
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采用射频磁控溅射法在Corning 7059玻璃和有机衬底上制备了ZnO:Al透明导电膜.研究了薄膜厚度的变化对薄膜的结构性质、光电性质的影响,性能最好的薄膜电阻率分别为8.55×10Ω
【机 构】
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山东大学光电材料与器件研究所(山东济南)
【出 处】
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第四届中国功能材料及其应用学术会议
【发表日期】
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2001年期
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