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Magnetic Behaviors of ZnO∶V Films Deposited by PLD with Bias Voltage Application

来源 :第六届国际氧化锌及相关材料研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：dongjun1964

【作 者】

：

Shingo Doi Kei Asano Takao Komiyama Yasunori Chonan Hiroyuki Yamaguchi Takashi Aoyama 

【机 构】

：

Akita Prefectural University,Yuri-Honjo,Akita 015-0055,Japan

【出 处】

：

第六届国际氧化锌及相关材料研讨会

【发表日期】

：

2010年期

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