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二氧化锡(SnO2)是一种重要的n-型半导体,其带隙宽度是3.6 eV,具有独特的物理和化学性能,目前被广泛的应用为透明导电氧化物材料和气体传感器中[1].目前,人们已经用各种物理和化学方法制备出了形貌丰富的SnO2 纳米结构,而质量轻、大尺寸、厚度薄的SnO2 纳米片的制备及其气敏性能的研究还未见报道.本实验利用快速热反应法,在650 ℃ 反应10 min 制备出了四方相结构的SnO2 纳米片.