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会议论文
用XPS法精确测量硅片上超薄氧化硅的厚度
用XPS法精确测量硅片上超薄氧化硅的厚度
来源 :2005年全国粉体设备-技术-产品信息交流会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:x_men_123
【摘 要】
:
本文给出了氧化硅厚度的计算公式,讨论了光电子发射角和晶体方位角的选择,介绍了硅片上超薄氧化硅的XPS测量方法。
【作 者】
:
刘芬
邱丽美
赵良仲
【机 构】
:
中国科学院化学研究所,北京,100080
【出 处】
:
2005年全国粉体设备-技术-产品信息交流会
【发表日期】
:
2005年9期
【关键词】
:
氧化硅厚度
计算公式
光电子发射角
晶体方位角
XPS法
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本文给出了氧化硅厚度的计算公式,讨论了光电子发射角和晶体方位角的选择,介绍了硅片上超薄氧化硅的XPS测量方法。
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