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表面多孔{001}晶面暴露二氧化钛薄膜光催化降解止痛灵研究
表面多孔{001}晶面暴露二氧化钛薄膜光催化降解止痛灵研究
来源 :第九届全国环境催化与环境材料学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xueyanli122
【摘 要】
:
作为目前研究最广泛的半导体氧化物之一,TiO2 具有稳定的物理化学性质,无毒、价廉、生物相容性好、光催化活性高、使用寿命长、易获得等优点,同时研究表明{001}晶面暴露
【作 者】
:
徐同舟
郑红
张彭义
【机 构】
:
中国地质大学(北京)材料科学与工程学院,北京,100083
【出 处】
:
第九届全国环境催化与环境材料学术会议
【发表日期】
:
2015年期
【关键词】
:
表面多孔
晶面
暴露
二氧化钛薄膜
光催化降解
光催化活性
物理化学性质
半导体氧化物
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作为目前研究最广泛的半导体氧化物之一,TiO2 具有稳定的物理化学性质,无毒、价廉、生物相容性好、光催化活性高、使用寿命长、易获得等优点,同时研究表明{001}晶面暴露的锐钛矿型TiO2 相比于热力学上更稳定的{101}晶面暴露的TiO2 具有更高的光催化活性。
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