YBCO超导薄膜的氟化研究

来源 :第六届全国超导电子器件学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户：lostlovestefan

【摘要】

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本文采用CF气体,对YBCO超导薄膜在真空室里进行射频等离子体氟化,XPS的结果表明氟化改变了YBCO薄膜的表面价态,并通过不同的条件下YBCO的氟化得到了氟化深度与氟化条件的关系

【作者】

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李琴傅泽禄吉争鸣康琳冯一军杨森祖

【机构】

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南京大学电子科学与工程系(南京)

【出处】

：

第六届全国超导电子器件学术会议

【发表日期】

：

2001年7期

【关键词】

：

超导薄膜射频等离子体氟化薄膜输运性能氟化深度

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本文采用CF<,4>气体,对YBCO超导薄膜在真空室里进行射频等离子体氟化,XPS的结果表明氟化改变了YBCO薄膜的表面价态,并通过不同的条件下YBCO的氟化得到了氟化深度与氟化条件的关系,对氟化后薄膜输运性质进行了研究,结果表明充分的氟化可以使YBCO超导电性完全消失,且此弱化过程不可逆.本文的研究为等离子体氟化YBCO薄膜形成弱连接结提供了实验依据.

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