高温形状记忆合金NiMnGa相变及其形状记忆效应的研究

来源 :第五届中国功能材料及其应用学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:jundy123
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主要研究了马氏体相变温度M<,s>高于居里温度T<,c>的Ni<,54>Mn<,25>Ga<,21>合金的相变及其单晶的形状记忆效应.采用真空电弧炉熔炼,然后用磁悬浮区熔晶体生长炉进行Ni<,54>Mn<,25>Ga<,21>合金的单晶生长,成功制备了Ni<,54>Mn<,25>Ga<,21>单晶.对多晶粉末样品进行了原位X射线衍射变温分析,结果表明Ni<,54>Mn<,25>Ga<,21>合金具有可恢复的热弹性马氏体相变性能.对Ni<,54>Mn<,25>Ga<,21>单晶进行的形状记忆效应实验结果表明,当总预应变不超过6﹪时,压缩变形后残留的应变可在随后的加热过程中完全回复.
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采用磁控溅射合成不同Ta含量的系列Ti(Ta)O薄膜.利用扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)对薄膜的表面形貌进行表征.并对薄膜表面进行人脐静脉内皮细胞(HUVEC)种植试验以评价薄膜材料的表面形貌对细胞组织相容性的影响.结果表明,细胞在不同Ta含量的Ti(Ta)O薄膜表面因表面形貌的不同具有明显不同的粘附、增殖和生长行为.薄膜表面适当的粗糙度有利于细胞的贴附、生长和增殖.该研究指出,
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