导电炭黑的层状分布对PVDF介电性能的影响研究

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【摘要】

：

<正>本文用层状共挤出设备制备了导电炭黑填充聚偏氟乙烯(CB-PVDF)/PVDF交替层状样品,通过调节层数来控制导电炭黑在层状样品中的分布,并研究了其对样品介电性能的影响。从偏

【作者】

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朱家铭沈佳斌郭少云

【机构】

：

四川大学高分子研究所,高分子材料工程国家重点实验室;

【发表日期】

：

2004年期

【关键词】

：

PVDF介电交替层状

【基金项目】

：

国家自然科学基金(51203097,51227802)资助

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<正>本文用层状共挤出设备制备了导电炭黑填充聚偏氟乙烯(CB-PVDF)/PVDF交替层状样品,通过调节层数来控制导电炭黑在层状样品中的分布,并研究了其对样品介电性能的影响。从偏光显微镜(POM)的照片中可以观测到导电炭黑在基体中层状分布的形态.。非等温结晶曲线说明炭黑在样品中的层状分布会导致两个结晶峰的出现。然而,随着层数的增加,低温

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