【摘 要】
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利用CH和CF混合气体在微波等离子体ECR反应槽中不对基片加热和施加偏压的条件下沉积a-C:F膜.本文主要使用傅立叶变换红外吸收光谱(FTIR)技术来研究沉积气压、[CH]/[CF]流量比R与薄膜结构之间的关系.FTIR谱显示薄膜中存在CF,CF,C=C,C-H键以及芳香基.对退过火的薄膜进行红外分析表明,H键和CF键结构强度对退火温度较为敏感,而CF键则相对较为稳定.薄膜的重量在退火时主要是以H
【机 构】
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苏州大学理学院物理系(中国苏州) 苏州大学理学院化学系(中国苏州)
【出 处】
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第四届中国功能材料及其应用学术会议
论文部分内容阅读
利用CH<,4>和CF<,4>混合气体在微波等离子体ECR反应槽中不对基片加热和施加偏压的条件下沉积a-C:F膜.本文主要使用傅立叶变换红外吸收光谱(FTIR)技术来研究沉积气压、[CH<,4>]/[CF<,4>]流量比R与薄膜结构之间的关系.FTIR谱显示薄膜中存在CF,CF<,2>,C=C,C-H键以及芳香基.对退过火的薄膜进行红外分析表明,H键和CF<,2>键结构强度对退火温度较为敏感,而CF键则相对较为稳定.薄膜的重量在退火时主要是以H<,2>,F<,2>或HF形式损失.
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