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采用脉冲激光溅射沉积的方法,在Si表面沉积了金和贫铀薄膜.通过SEM和白光干涉分析结果表明,PLD沉积法能够制备出粗糙度小于1 nm、表面光滑、致密、厚度一致性较好的Au、U薄膜.PLD的关键在于减少薄膜表面液滴,这可通过增大靶基距并减小激光能量实现.同时,适当升高基片温度亦有利于减少液滴,但会增加U薄膜中的氧含量.