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通过蒸发诱导自组装技术分别以P123和F127三嵌段共聚物为模板制备了具有不同有序结构的介孔SiO2薄膜，通过正电子湮没多普勒展宽能谱和同步辐射小角X射线反射率等技术对其孔结构进行表征，并分析探讨了孔形状正电子湮没特性的影响。
有序介孔结构的正电子湮没技术表征
【摘 要】
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通过蒸发诱导自组装技术分别以P123和F127三嵌段共聚物为模板制备了具有不同有序结构的介孔SiO2薄膜，通过正电子湮没多普勒展宽能谱和同步辐射小角X射线反射率等技术对其孔结
【机 构】
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中国科学院高能物理研究所核分析技术重点实验室,北京100049
【出 处】
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第十届全国正电子湮没谱学会议
【发表日期】
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2009年11期
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