【摘 要】
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在广泛应用于溅射深度剖析定量分析的MRI模型基础上,首先引入了一个新的参数用以考虑因择优溅射而引起的失真效应,并定量分析了有着明显择优溅射的Ta(7.5nm)/Si(10.5nm)
【机 构】
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汕头大学理学院物理系非晶半导体实验室 汕头 515063
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在广泛应用于溅射深度剖析定量分析的MRI模型基础上,首先引入了一个新的参数用以考虑因择优溅射而引起的失真效应,并定量分析了有着明显择优溅射的Ta(7.5nm)/Si(10.5nm)多层膜的深度剖析谱.在此基础上,对利用三种不同深度剖析技术(AES,XPS和SIMS),得到的同一Si(15nm)/Al(15nm)多层膜样品的深度剖析谱进行了定量分析,比较了相应的溅射深度分辨率.随后以两个纳米多层膜样品(4×Si(15nm)/Al(15nm)和Ge0.6Si0.4(2.2nm)/Si(6.8nm)/Ge0.37Si0.63(4.3nm)/Si(4.5nm)/Ge0.6Si0.4(2.2nm))为例,介绍了如何利用深度剖析定量分析的方法,精确确定在纳米薄膜中局域的和扩散深度仅有一个纳米的互扩散系数.最后,给出了深度剖析谱的定量分析,在确定离子注入的成分深度分布和定量表征高分辨率GDOES测量结果的应用实例.
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