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从2001年我国颁布实施《集成电路布图设计保护条例》起,至今已走过11年的历程。这不仅标志着布图设计作为一种专用权,已经成为知识产权家族的新成员,并纳入中国知识产权保护体系,受到法律的保护。但布图设计专用权的保护兼有著作权法和专利法的"血缘",其特点是,布图设计的"独创性"介于著作权法意义上的"原创性"与专利法意义上的"创造性"之间。因此,如何对集成电路布图设计进行合适的保护,无论是从立法层面和理论研究层面而言,都面临一些亟待解决的问题。本文回顾了集成电路布图设计保护的立法脉络,从我国集成电路布图设计的程序与实体保护入手,对集成电路布图设计撤销程序的完善提出了建议,并简要地探讨了行政保护阶段的实体审查相关问题。