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该文用共焦喇曼系统原位观察了Ｓｉ（１００）表面在ＮＨ〈，４〉ＯＨ／Ｈ〈，２〉Ｏ〈，２〉／Ｈ〈，２〉Ｏ（ＳＣ－１）溶液中的变化过程。研究表明：在硅片浸入ＳＣ－１溶液的过程中，其表面逐浙被两种氧化物所覆盖，一种是由于ＮＨ〈，４〉ＯＨ作用形成的氧化物，另一种是在ＮＨ〈，４〉ＯＨ和Ｈ〈，２〉Ｏ〈，２〉共同作用下形成的、并与氢相关的氧化物。除此之外，硅片表面有少量的Ｓｉ－Ｈ键存在。