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本文采用荧光光谱仪和原子力显微镜测量了多孔硅的理化性质,得到了初步研究结果.
电化学侵蚀条件对多孔硅理化性质影响的实验研究
【摘 要】
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本文采用荧光光谱仪和原子力显微镜测量了多孔硅的理化性质,得到了初步研究结果.
【机 构】
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重庆大学化学化工学院(重庆)
【出 处】
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第十一次全国电化学会议
【发表日期】
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2001年11期
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