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紫外辐射诱导羟基取代全氟辛基磺酰氟中氟原子的质谱分析
紫外辐射诱导羟基取代全氟辛基磺酰氟中氟原子的质谱分析
来源 :中国化学会第二届全国质谱分析学术报告会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:baishuitylh
【摘 要】
:
全氟辛基磺酰氟被广泛应用于高分子聚合物、表面活性剂等工业生产中,它是制备含氟特种表面活性剂的重要中间体,用它可合成系列氟碳表面活性剂。然而,由于全氟辛基磺酰氟很难
【作 者】
:
王鹏
唐雪妹
张文洋
黄璐璐
康婕
钟鸿英
【机 构】
:
华中师范大学化学学院,教育部农药与化学生物学重点实验室,分子结构 鉴定与精准生物医学分析质谱中心,武汉 430079
【出 处】
:
中国化学会第二届全国质谱分析学术报告会
【发表日期】
:
2015年期
【关键词】
:
紫外
辐射诱导
羟基取代
全氟辛基磺酰氟
氟原子
特种表面活性剂
氟碳表面活性剂
高分子聚合物
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全氟辛基磺酰氟被广泛应用于高分子聚合物、表面活性剂等工业生产中,它是制备含氟特种表面活性剂的重要中间体,用它可合成系列氟碳表面活性剂。然而,由于全氟辛基磺酰氟很难生物降解,因此,它在全球各地的环境中随处可见,造成了相当棘手的环境污染问题。
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