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Influence of Deposition Pressure on Orientation of CuPc molecule on SiO2 and OTS/SiO2 Surfaces
【机 构】
:
Institute of Theoretical and Computational Chemistry,Key Laboratory of Mesoscopic of MOE, School of
【出 处】
:
第十一届全国量子化学会议
【发表日期】
:
2011年期
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