【摘 要】
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在大气压下,以甲烷为反应单体,氩气为工作气体,利用介质阻挡放电(DBD)等离子枪可沉积类金刚石薄膜DLC)。但基体温度,气体配比,沉积时间,工作电压,其流通入方式以及枪口与基体
【机 构】
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北京印刷学院等离子体物理及材料研究室,北京,102600
【出 处】
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第7届全国表面工程学术会议暨第二届表面工程青年学术论坛
论文部分内容阅读
在大气压下,以甲烷为反应单体,氩气为工作气体,利用介质阻挡放电(DBD)等离子枪可沉积类金刚石薄膜DLC)。但基体温度,气体配比,沉积时间,工作电压,其流通入方式以及枪口与基体的距离对沉积类金刚石的特性都有影响。实验中以溴化钾压片和单晶硅等为基底,主要研究了基体温度,气体配比,沉积时间以及工作电压对类金刚石薄膜沉积的影响,并且通过红外分析(FTIR),扫描电镜(SEM),拉曼光谱,摩擦磨损仪对沉积的类金刚石薄膜进行检测分析,探索了该合成方法合成类金刚石的特点,给出了合成类金刚石和以上工艺参数的关系。
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