【摘 要】
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N型太阳电池由于其高效率和低的光致衰减,一直受到广泛关注.N型双面太阳电池的背面为获得低的欧姆接触和良好的填充因子,需要重掺杂的磷扩散形成背表面场.然而重掺杂的背场增加了表面复合,降低电池效率.本文提出一种具有选择性背场结构的N型双面太阳电池,开发了一种工业上可行的回刻工艺制作选择性背场.金属栅线区域印刷抗酸掩膜获得低的接触电阻,重掺杂的背场通过湿化学工艺刻蚀,讨论了影响电池效率和分布的几个重要参
【出 处】
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SNEC 第十届(2016)国际太阳能产业及光伏工程(上海)论坛
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N型太阳电池由于其高效率和低的光致衰减,一直受到广泛关注.N型双面太阳电池的背面为获得低的欧姆接触和良好的填充因子,需要重掺杂的磷扩散形成背表面场.然而重掺杂的背场增加了表面复合,降低电池效率.本文提出一种具有选择性背场结构的N型双面太阳电池,开发了一种工业上可行的回刻工艺制作选择性背场.金属栅线区域印刷抗酸掩膜获得低的接触电阻,重掺杂的背场通过湿化学工艺刻蚀,讨论了影响电池效率和分布的几个重要参数.与均匀背场相比,短路电流提升234mA,开路电压提升10mV,效率提升05％.选择性背场结构的电池具有良好长波响应和极低的背表面复合.通过这种工艺,在N型156× 156mm CZ硅片上可以获得电池平均效率20.5％,最高效率21.08％.
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