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采用高真空磁控溅射法在单晶Si上沉积了分别包含非晶与纳米晶Ta 薄膜的两种Cu/Ta/Si膜基体系，利用X 射线衍射仪、扫描电子显微镜与透射电子显微镜等表征了其界面结构演化，研究了两种结构Ta 膜在Cu/Ta/Si膜基体系的扩散阻挡行为及其失效机制。
Cu互连结构中非晶与纳米晶金属Ta薄膜扩散阻挡行为的研究
【摘 要】
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采用高真空磁控溅射法在单晶Si上沉积了分别包含非晶与纳米晶Ta 薄膜的两种Cu/Ta/Si膜基体系，利用X 射线衍射仪、扫描电子显微镜与透射电子显微镜等表征了其界面结构演化，
【机 构】
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南京大学固体微结构物理国家重点实验室,南京大学现代工程与应用科学学院,南京,210093
【出 处】
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第十三届全国固体薄膜学术会议
【发表日期】
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2012年期
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