内嵌金属富勒烯Y@C82的制备及同步辐射EXAFS研究

来源 :北京同步辐射装置2005年学术年会暨学术委员会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:waxs8520
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内嵌金属富勒烯以其独特的几何结构与电子结构预示其在电子、光电子以及医疗领域有重大的应用前景而受到研究者格外的关注.详细描述了内嵌金属富勒烯的高效率生产的制备过程,并通过测定和拟合在低温(25K)下Y@C82的不同k取值范围的EXAFS谱,可以得到Y@C82中的Y的最近邻和次近邻配位壳层的结构参数,还可以得知Y-C两个壳层的配位距离基本没有随k的取值范围变化,Y@Cs2的两个壳层的原子分布即使在低温下也存在比较大的无序.
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