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采用等离子浸没离子注入和沉积(PIII-D)方法在室温下合成了氮掺杂碳基薄膜。薄膜的厚度大约200 nm;采用路易斯酸碱对的方法深入研究了薄膜的表面能;用拉曼光谱和X射线光电子能谱分析了薄膜的成分和结构。结果表明：薄膜内氮的掺杂含量和sp2簇并不是随氮气流量增加而持续增加;带隙宽度与薄膜表面能中的酸碱分量比有较好的相关性。