CAS-KIT上颌窦内提升术在低牙槽嵴区种植的临床研究

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<正>目的:探讨经牙槽嵴顶入路的CAS-KIT(crestal approach-sinus kit)上颌窦内提升同期植入种植体技术在上颌后牙区低牙槽嵴(4mm<h<6mm)种植中的应用效果,为临床提供参考。方法:采用CBCT筛选需采用上颌窦提升行种植手术的健康男性患者61例共计152颗植体,其牙槽嵴高度在4mm及6mm之间,其中上颌窦外提升组33例(83颗植体),CAS-KIT内提升组28例(69颗植体),术中均采用Geistlich Bio-Oss小颗粒骨粉且同期植入种植体,并分别在术前、术后即刻、术后4个月、术后8个月、术后12个月检查两组种
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