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Photoresponse of acid exfoliated MoS2 films

来源 :第二届纳米能源与纳米系统国际会议(NENS2016) | 被引量 : 0次 | 上传用户：gandianci20

【作 者】

：

Renyun Zhang Magnus Hummelg?rd Viviane Forsberg Henrik Andersson Magnus Engholm H?kan Olin 

【机 构】

：

Department of Natural Sciences,Mid Sweden University,SE-85170 Sundsvall,Sweden

【出 处】

：

第二届纳米能源与纳米系统国际会议(NENS2016)

【发表日期】

：

2016年3期

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