【摘 要】
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利用电子回旋共振等离子体辅助反应脉冲激光沉积的方法制备了氮化碳薄膜.成分分析显示,制备的薄膜主要由C和N两种元素组成,其中N的含量可高于50℅,且膜层均匀.同时X射线光电
【机 构】
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复旦大学光科学与工程系,三束材料改性国家重点实验室(上海)
【出 处】
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第四届中国功能材料及其应用学术会议
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利用电子回旋共振等离子体辅助反应脉冲激光沉积的方法制备了氮化碳薄膜.成分分析显示,制备的薄膜主要由C和N两种元素组成,其中N的含量可高于50℅,且膜层均匀.同时X射线光电子能谱(XPS),傅立叶变换红外谱(FTIR)以及喇曼光谱(Raman)分析都表明,膜层中除了部分C-C键外,N主要与sP<2>和sP<3>杂化的C相结合,未检查到游离状态的N.实验还发现膜层的元素成分和化学结构与衬底偏压有关.
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