单分子技术研究共轭聚合物构象与发射性质之间的关系

来源 :第九届全国高聚物分子与结构表征学术讨论会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:b2316
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  聚合薄膜形态不仅影响薄膜的光电性质,而且会影响发光猝灭位点产生和降低共轭长度的光氧化的程度[1]。然而由于聚合物材料的复杂性和高度异质的分子结构,使聚合物形态与性能之间的关系研究存在许多困难,单分子水平上的研究却可以有效简化之。对单分子链来说,形态与构象基本具有相同意义。退火处理广泛用于共轭聚合物与其他聚合物的混合薄膜中以得到最优的薄膜形态,从而改善材料性能。本文利用全内反射荧光显微镜研究了不同退火温度下聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)基质中聚[2-甲氧基-5-(2-乙基:氧基)-1,4-苯乙炔](MEH-PPV)单分子链构象与发光性质之间关系。
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