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目的先天性唇腭裂(cleft lip and/or palates,CLP)是人类最常见的先天发育性缺陷之一。全世界的发病率为1/500～1/1000,近年来各国报道的唇腭裂发病数字仍有上升的趋势。在我国,先天性唇腭裂的发生率约为1%～2‰,属于发病率较高的国家。在所有的唇腭裂中,约有70%是以非综合征形式存在的,但其发病机制目前尚未明确,大多数学者认为是基因和环境的联合作用引起的。低氧(Hypoxia)是指生理性氧量不足或组织需氧量不足的一种状态,氧含量一般为3%-0.1%。氧是细胞代谢线粒体氧化磷酸化的重要底物,对细胞的存活具有重要的调节作用。低氧可以分为生理性低氧和病理性低氧两种不同类型。低氧程度的不同对机体产生的影响也不相同,适度的低氧能诱导机体产生适应性反应,最终促进细胞的存活,而严重低氧则会通过激活凋亡等途径,增加对机体的影响,如肿瘤,发育畸形等。氯化钴是一种化学制剂,应用于体外模拟细胞低氧环境。本研究通过氯化钴模拟的低氧环境研究低氧对小鼠腭突细胞增殖的影响。材料与方法我们采用胚胎发育13.5天的正常胎鼠的腭突细胞作为研究对象。用氯化钴模拟低氧环境处理腭突细胞1-7天。将腭突细胞随机分为6组,分别是对照组、10μmol/L、25μmol/L、50μmol/L、100μmol/L、200μmol/L的二氯化钴(cobalt chloride,CoCl2),用CCK8法检测小鼠腭突细胞增殖活力。所有实验数据均采用均数±标准差(±s)表示,采用SPSS Statistics软件包对所得数据进行统计学分析。采用单因素方差分析(SNK法),定义p<0.05为显著性差异,GraphPadPrism7.00分析图像。结果对照组的腭突细胞增殖率保持稳定不变。200μmol/L组处理后的细胞增殖率1-7天一直处于下降趋势。10μmol/L、25μmol/L、50μmol/L、100μmol/L组在24H增殖率增加,48H有轻微下降,72H上升后一直维持下降趋势,且在第四天之后不同浓度氯化钴对细胞增殖的影响均呈下降趋势。结论小鼠腭突细胞增殖受氯化钴形成的低氧影响呈时间和浓度依赖性,进行化学模拟低氧时,要考虑氯化钴的作用浓度和时间。