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VDMOS器件单粒子加固技术研究
VDMOS器件单粒子加固技术研究
来源 :第十届全国抗辐射电子学与电磁脉冲学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:sntatgh
【摘 要】
:
本文主要结合功率VDMOS器件单粒子效应的损伤机理,进行了VDMOS器件结构和工艺技术的加固研究,研制出了加固样品,并通过地面模拟试验源的辐照试验,对样品进行了单粒子效应敏感度测
【作 者】
:
王小荷
黄玉文
耿增建
【机 构】
:
西安微电子技术研究所陕西西安710054
【出 处】
:
第十届全国抗辐射电子学与电磁脉冲学术年会
【发表日期】
:
2009年7期
【关键词】
:
单粒子烧毁
单粒子栅穿
复合栅工艺
辐照模拟
金属氧化物半导体器件
损伤机理
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本文主要结合功率VDMOS器件单粒子效应的损伤机理,进行了VDMOS器件结构和工艺技术的加固研究,研制出了加固样品,并通过地面模拟试验源的辐照试验,对样品进行了单粒子效应敏感度测试评估。试验结果表明,经加固的器件样品其抗单粒子效应能力有了明显提高.
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