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反应离子刻蚀和感应耦合等离子体刻蚀是硅基聚合物波导常用的制备工艺。本文以脊形波导为研究对象，利用扫描电子显微镜和原子力显微镜对比两种不同方法的刻蚀效果，系统分析了感应耦合等离子体刻蚀工艺中源功率、偏置功率、刻蚀腔室压强以及气体组分对聚合物脊形波导形貌的影响，得到了侧壁垂直度高和表面粗糙度小的优化丁艺条件。