电阻抗成像技术用于深低温停循环围术期脑损伤监护的可行性研究

来源 :2015年中国生物医学工程联合学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zhaojie25
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  目的:围手术期的脑保护问题一直是胸主动脉夹层动脉瘤深低温停循环选择性脑灌注手术的关键问题。针对现有技术难以实时观察脑组织供血状况的不足,本研究根据电阻抗断层成像(EIT)新技术具有对组织血供敏感、无创、可长时间连续成像的优势,探索其用于该手术术中脑损伤监护的可行性,以为进一步的研究奠定基础。方法:对2014 年10 月以来入住西京医院的 8 例主动脉夹层动脉瘤患者进行了术中EIT 成像监护,对患者的两侧脑区的电阻抗基础阻抗、低灌注及停灌注期间两侧的电阻抗变化特性进行了对比分析。结果:8例患者的脑部电阻抗共呈现3 类变化:①在低流量灌注期间,6 例患者脑部阻抗整体变化平稳,虽然短时停灌期间脑阻抗有显著升高但会随着灌注的恢复而恢复,提示脑组织未出现缺血缺氧性变化;②1 例患者全脑阻抗呈持续上升状态,恢复供血后依然保持在较高水平,提示该患者术中疑似出现脑供血不足;③1 例患者左侧脑阻抗呈明显高于右侧的上升变化,循环恢复后该区域电阻抗仍保持在较高水平,提示该患者脑代偿功能疑似不足,左脑供血不足。结论:EIT 技术可能对深低温停循环过程中的脑供血状态敏感,若能通过进一步的深入研究予以确认,则有望为此类手术提供一种有效的围术期图像监护手段,为患者提供更好的保护。
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