【摘 要】
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本文研究用90.离轴射频磁控溅射方法将La0.7Ca0 3MnO3(LCMO)沉积在(001)取向的钇稳定氧化锆(YSZ)单晶基片上,制取厚度分别为200(A),500(A),1000(A)的薄膜样品.通过掠入射X射
【机 构】
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南京理工大学理学院应用物理系,南京,210094
【出 处】
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第九届全国X-射线衍射学术大会暨国际衍射数据中心(ICDD)研讨会
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本文研究用90.离轴射频磁控溅射方法将La0.7Ca0 3MnO3(LCMO)沉积在(001)取向的钇稳定氧化锆(YSZ)单晶基片上,制取厚度分别为200(A),500(A),1000(A)的薄膜样品.通过掠入射X射线衍射技术测量了LCMO薄膜材料的面内晶格常数,并结合常规X射线衍射研究了这些薄膜样品的晶格应变及其弛豫情况.研究结果表明,薄膜内不同厚度处的应变是不均匀的,薄膜内不同厚度处的面内晶格常数随着与薄膜-基片界面之间距离的增加而减小,表明具有大的晶格失配率的LCMO/YSZ薄膜的应变弛豫可能具有独特的机制.
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