【摘 要】
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该工艺优选了掺铒光纤的结构设计,并用MCVD工艺对其诸光学参数实现了有效控制,使其在纤芯中掺杂(Er〈’3+〉)浓度及沿光纤纵、横向分布的均匀性达到设计指标。实现了纤芯折射率及Er〈’3+〉近似同斯型分布。我国光纤放大器研究者用此光纤分别在0.5145μm、0.532μm、0.98μm波长成功的进行了光放大实验取得了16.5dB、29.5dB、25.3dB的高增益。
【出 处】
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中国惯性技术学会光电技术专业委员会第三次学术交流会
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该工艺优选了掺铒光纤的结构设计,并用MCVD工艺对其诸光学参数实现了有效控制,使其在纤芯中掺杂(Er〈’3+〉)浓度及沿光纤纵、横向分布的均匀性达到设计指标。实现了纤芯折射率及Er〈’3+〉近似同斯型分布。我国光纤放大器研究者用此光纤分别在0.5145μm、0.532μm、0.98μm波长成功的进行了光放大实验取得了16.5dB、29.5dB、25.3dB的高增益。
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