【摘 要】
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采用阳极层流型矩形气体离子源结合中频磁控溅射技术制备梯度过渡Cr-DLC膜层。利用扫描电镜、显微硬度计、球-盘摩擦磨损实验仪及划痕试验仪对不同工艺制备的Cr-DLC膜层的部
【机 构】
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广州有色金属研究院,广东,广州,510651
【出 处】
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第7届全国表面工程学术会议暨第二届表面工程青年学术论坛
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采用阳极层流型矩形气体离子源结合中频磁控溅射技术制备梯度过渡Cr-DLC膜层。利用扫描电镜、显微硬度计、球-盘摩擦磨损实验仪及划痕试验仪对不同工艺制备的Cr-DLC膜层的部分机械性能进行分析对比。结果表明:Cr-DLC膜层的附着性能在CH4/Ar流量比为100/150时为最佳,随着中频功率的增大膜层的附着性能下降；硬度随CH4流量的增大及中频功率的提高,皆呈先上升后下降；在一定范围内CH4流量的变化对Cr-DLC膜层的摩擦系数影响不大,中频功率的增加膜层的摩擦系数呈上升趋势。
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